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　　1、商品名稱 舊ALD沉積系統(tǒng)（4|3|用于半導(dǎo)體行業(yè)|將物質(zhì)材料以單原子膜的形式基于化學(xué)氣相一層一層的沉積）原產(chǎn)國(guó)：日本 2臺(tái)

　　2、商品名稱 舊CVD沉積系統(tǒng)（4|3|用于半導(dǎo)體行業(yè)|將物質(zhì)材料以單原子膜的形式基于化學(xué)氣相一層一層的沉積）原產(chǎn)國(guó)：日本 1臺(tái)

　　3、商品名稱 舊擴(kuò)散爐（4|3|用于半導(dǎo)體行業(yè)|在高溫條件下對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行摻雜，即將元素磷、硼擴(kuò)散）原產(chǎn)國(guó)：日本 1臺(tái)

　　4、商品名稱 舊擴(kuò)散爐（4|3|用于半導(dǎo)體行業(yè)|在高溫條件下對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行摻雜，即將元素磷、硼擴(kuò)散）原產(chǎn)國(guó)：日本 1臺(tái)

　　5、商品名稱 舊擴(kuò)散爐（4|3|用于半導(dǎo)體行業(yè)|在高溫條件下對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行摻雜，即將元素磷、硼擴(kuò)散）原產(chǎn)國(guó)：日本 3臺(tái)

　　6、商品名稱 舊擴(kuò)散爐（4|3|用于半導(dǎo)體行業(yè)|在高溫條件下對(duì)半導(dǎo)體晶圓進(jìn)行摻雜，即將元素磷、硼擴(kuò)散）原產(chǎn)國(guó)：日本 4臺(tái)

　　進(jìn)口日期：2023年12月12日

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　　1、半導(dǎo)體設(shè)備中文品名清單信息（品名/型號(hào)/數(shù)量/產(chǎn)地/品牌/貨值/制造年份/新舊程度）

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